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直接結合鎂鉻磚是以SiO2小于2％的高純燒結鎂砂和鉻鐵礦為原料，通過高溫燒結而制成。鎂鉻晶粒之間為方鎂石方鎂石或方鎂石尖晶石的直接結合，少量硅酸鹽以孤立狀處于晶粒之間。直接結合磚在燒成過程中，鉻礦粒子縫隙中的硅酸鹽隨著溫度升高逐漸移入基質，使鉻礦粒子與方鎂石接觸，并向方鎂石晶內(nèi)擴散溶解。高溫下，基質部分的方鎂石和鉻礦在硅酸鹽中溶解，冷卻時，在方鎂石晶內(nèi)和晶粒邊界沉淀為脫溶粒子次生尖晶石或次生方鎂石，使之形成方鎂石～方鎂石和方鎂石尖晶石的直接結合，少量硅酸鹽相則孤立于晶粒之間。隨著燒成溫度提高，高溫下的溶解和冷卻時的脫溶加劇，晶間直接結合程度隨之提高。